Haomei azienda produzione e funzionamento positivo HDP-i PS plate, negativo PS plate (HDN), termico CTP (HLR), Haomei di PS plate con struttura a sabbia composita, buona idrofilicità, gas guida ruvida, fotosensibile veloce, Press run, punti chiari, ecc 
  
Il sistema PS Plate fa parte di una linea completa di film, scansione, prove digitali, piastre e prodotti per l'imaging progettati per aumentare la produttività. Poiché tutti i nostri impianti sono certificati ISO 9000, potete aspettarvi una consistenza da prodotto a prodotto, scatola a scatola, lotto a lotto. Inoltre, tutte le piastre sono state prodotte presso lo stabilimento all'avanguardia di Haomei
Grafico positivo HMP -i versione PS utilizzata stampa a colori; HMP - II libri e giornali usati; HMP -III è adatto per la prova su lastra, la versione PS grafica negativa, l'uso di debole sviluppo di base, in rapida evoluzione; Buona stabilità, alta resistenza, tasso di resistenza è elevato, può raggiungere più di 200000, per i giornali, i processi di ufficiale commerciale come la stampa, ma dopo l'esposizione per migliorare ulteriormente la forza di resistenza.
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 Spessore alluminio  | 
 0.15-0, 3 mm  | 
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 Stato della lega di alluminio  | 
 1050H18  | 
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 Ruvidità della superficie  | 
 0.5-0, 65 um  | 
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 La massa per unità di area dello strato di ossido  | 
 2.0-3, 5g/m2  | 
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 La massa per unità di area del livello sensibile  | 
 2.0-2, 5g/m2  | 
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 Quantità esposizione  | 
 140-200mj/m2  | 
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 Capacità di riproduzione dei punti  | 
 2-98%  | 
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 Definizione  | 
 8-10 um  | 
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 Dernsity di Piaae surstotfi colore di sfondo  | 
 < 0.01  | 
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 Velocità di stampa anti-stampa  | 
 50, 000-100, 000 stampe  | 
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 Periodo di conservazione  | 
 L8mesi, ombreggiato, contro l'umidità, contro il calore  | 
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 Condizioni di deposito  | 
 Temperatura 30°C, umidità relativa 65°C, altezza pila 1.5m  | 
| UV CTP Specifiche tecniche | |
| Tipo di piastra | Piastra offset positiva Per La realizzazione di piastre UV-CTP | 
| Applicazione | Tutti I tipi Di macchine CTCP | 
| Sottostrato | Alluminio elettrolitico a grana e anodizzato | 
| Spessore | 0, 15 mm-0, 30 mm | 
| Larghezza massima granella corta | 1500 mm | 
| Sensibilità spettrale | 
    Luce UV da 350 nm 
 Laser UV da 365 nm e 405-410 nm  | 
| Compatibilità con il dispositivo di regolazione delle piastre | Luscher XPose! UV, Basysprint UV-Setter, Cron UVP Ecc. | 
| Misure di sicurezza | Filtro UV O Giallo | 
| Sensibilità | 60-70mj/cm2 | 
| Sviluppo | 
Conducibilità  : Min  55 ms,   Max  65 ms. 
 Temperatura: 20-25 Gradi PH13.00-13.10  | 
| Sviluppatore | Sviluppatore di piastre offset positivo comune | 
| Riproduzione dei punti | 
  
 1%--99% 200 linee/pollice  | 
| Colore finale dell'immagine | Verde | 
| Durata a magazzino | 12 Mesi Se Conservato In Un'area priva di luce , lontano Da Freddo eccessivo, Calore E Umidità elevata | 
| Lunghezza della corsa | 0, 30 mm Sopra 100, 000 ( La lunghezza effettiva del ciclo Può Variare In base Alle condizioni della pressa, dell'inchiostro e del materiale. |