Ossigeno al 99.999%, 5 n ad elevata purezza

Model No.
50L 200bars
punto di fusione
-218.4
colore cilindro
colore verde o personalizzato
aspetto
incolore
marchio
terra
punto di ebollizione
-183
pressione di esercizio
150 bar/200 bar
pressione di prova
250 bar/300 bar
cilindro standard
iso9809-3 o iso9809-1
nome del prodotto
ossigeno gassoso ad alta purezza
Pacchetto di Trasporto
Gas Cylinder
Specifiche
50L 200bar
Marchio
FORTERRA
Origine
China
Codice SA
7311009000
Capacità di Produzione
5000000/Year
Prezzo di riferimento
$ 47.70 - 49.50

Descrizione del Prodotto


 Qingdao Forterra gas Co.,Ltd. È uno dei principali produttori di gas industriale (Argon, azoto, acetilene, elio, H2, O2, CO2, N2O ...). I nostri gas e bombole sono stati esportati in Africa, Sud America, Medio Oriente, Sud Asia, Russia, Spagna, Brasile, Australia..etc

GAS OSSIGENO  
Ossigeno gas è incolore, inodore e inodore gas a temperatura e pressione normali. L'ossigeno non è infiammabile, ma supporta la combustione. D0 (gas) 1,429 g/l; D-183 (liquido) 1,14 g/RNL; punto di fusione - 218.4 ºC; punto di ebollizione - 182 96 ºC, temperatura critica - 118.95 ºC; pressione critica 50,14 atm; calore di vaporizzazione 50,9 cal/g (- 183 ºC) (lcal=4,2 J). Quando viene raffreddato a - 182.9 ºC sotto pressione normale, si tratta di un liquido trasparente blu cielo.
Con l'ossigeno prodotto dall'unità di separazione dell'aria come materia prima, dopo distillazione a due stadi si ottiene più del 99.5% di ossigeno e quindi entra nella torre di ossigeno ad elevata purezza. Dopo due distillazioni a bassa temperatura, 99 più del 995% di ossigeno ad alta purezza.
L'ossigeno gassoso ad alta purezza viene utilizzato principalmente per ossidazione termica, diffusione, deposizione chimica in fase vapore, attacco al plasma e altri processi di dispositivi a semiconduttore. Può essere utilizzato anche per la produzione di fibre ottiche e di cinescopio a colori e come gas standard, gas di correzione e gas zero. Viene utilizzato come fonte di ossidazione e come reagente per produrre acqua ad alta purezza. Per i dispositivi MOS ad effetto di campo, lo strato di ossido deve essere abbastanza denso. L'ossidazione a secco con ossigeno ad alta purezza può soddisfare i requisiti di produzione grazie a una struttura compatta, una carica positiva inferiore e una resistenza ad alta tensione. Miscelato con tetrafluoruro di carbonio, può essere utilizzato per l'attacco al plasma.

I gas di esportazione sono i gas di esportazione normali attualmente, si prega di controllare per il vostro riferimento gentile:

 
ARTICOLO NOME DIMENSIONI CILINDRO PRESSIONE DI ESERCIZIO PUREZZA DEL GAS
CILINDRO STANDARD ISO9809      
1 Argon 20 L/30 L/40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR 99.99% ~ 99.999%
2 Ossigeno 10 L/20 L/30 L/40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR 99.9% ~ 99.999%
3 CO2 (alimenti) 10 L/15 L/40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR 99.9% ~ 99.99%
4 CO2(industriale) 40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR 99.9% ~ 99.99%
5 Azoto 20 L/30 L/40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR 99.99% ~ 99.999%
6 Elio 20 L/30 L/40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR 99.99% ~ 99.999%
7 N2O (gas ridente) 10 L/20 L/30 L/40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR 99.9% ~ 99.99%
8 Argon misto gas 40 L/50 L. 150 BAR/200 BAR -

 

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