MODELL | CXK- K1 Positive Thermal-CTP-Platte | |
PARAMETER | Spektrum-Empfindlichkeit | 830nm |
Laser-Energie | 110mj/Square centimetre-140mj/Square Zentimeter | |
Auflö Sung | 1-99% 200lpi/10μ FM | |
UVkompatibilitä T | Kompatibel, nach geglü Ht | |
Backen-Zustand | 230-250° C, 8-12Minutes (angewendet mit Plattenbackenlö Sung) | |
Stä Rke | 0.15mm - 0.40mm | |
Maximale Breite | 1200mm | |
Speicherung | Speicher, in dem sie kü Hl ist und trocknet, Temperatur 5-30° C, RH≤ 60% | |
Lagerbestä Ndigkeit | 18months | |
Sich ENTWICKELN | Entwickler/Replenisher | CXK- K1 - DVP |
Sich entwickelnde Temperatur | 24° C± 2° C | |
Prozessgeschwindigkeit | 20S± 5S | |
Kinetik ergä Nzen | Dynamisches 100ml/Quadratmeter statisches 40-80ml/h | |
Pinsel-Geschwindigkeit | 90-110rpm | |
Chemische Abwechslung | 2500-3000 Quadratmeter (8 Wochen nicht ü Berschreiten) | |
VORSICHT | Platten-Gummi | Vorschlagen, um gute Qualitä Tsgummi zu verwenden |
Vorsicht lö Schen | Griff sorgfä Ltig | |
Geringfü Gige Einstellung | Falls geringfü Gige Einstellung brauchte, ist sie vorschlä Gt, um die sich entwickelnde Zeit auszudehnen eher als, Entwicklertemperatur zu erhö Hen |