Modalità Quota |
JTL-800
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JTL-1100
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JTL-1250
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800*1000mm
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1100*1000mm
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1250*1100 mm
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Modalità di rivestimento e conferma principale |
Sei bersagli ad arco multiplo + un set di bersagli colonna + un set di target di magnetron rettangolari piani
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Otto bersagli multi-arco + una coppia di sputtering doppio (MF)magnetron obiettivi |
Dodici bersagli multi-arco + due set di magnetron rettangolare piano Target di sputtering+ due target di sputtering doppi (MF)magnetron
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Alimentazione
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Potenza elettrica ad arco, potenza magnetron CC, potenza magnetron MF, potenza filamento , potenza a impulsi, sorgente ionizzata lineare.
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Controllo del gas di processo
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Flussometro di qualità + elettromagnetismo valvola ceramica
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Struttura della camera a vuoto
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Sportello singolo (laterale) verticale, postposizione impianto pompa, doppio raffreddamento ad acqua
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Sistema a vuoto
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Pompa molecolare +pompa radice + pompa meccanica(5.0*10 -5 Pa)
Pompa di diffusione +pompa radice + pompa meccanica(5.0*10 -4 Pa) |
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Temperatura di cottura del pezzo
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Temperatura normale a 350 centi-grado controllo PID, riscaldamento di radiazione . |
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Modalità di movimento del pezzo
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Rotazione pubblica controllo di frequenza: 0-20 rotazioni al minuto
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Modalità di misurazione
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Vacuometro composito con display numerico : Da atmosfera a 1.0*10 -5 Pa
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Modalità di controllo
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Manuale/automatico/PC/PLC + HMI/PC quattro opzioni di modalità di controllo
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Nota
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Possiamo progettare la dimensione dell'attrezzatura in base alle specifiche esigenze tecniche del cliente.
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