Rivestimento al plasma
La polverizzazione catodica del magnetron è un processo di rivestimento al plasma in cui il materiale di polverizzazione catodica viene espulso a causa del bombardamento di ioni sulla superficie bersaglio. La camera a vuoto della macchina di rivestimento PVD è riempita con un gas inerte, come argon. Applicando una tensione elevata, si crea una scarica a incandescenza, che dà come risultato accelerazione di ioni alla superficie bersaglio e un rivestimento al plasma. Gli ioni argon espelleranno materiali spruzzatori dalla superficie bersaglio (sputtering), dando come risultato uno strato di rivestimento sputtered sui prodotti davanti al bersaglio.
La tecnologia di sputtering magnetron è caratterizzata da: